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반도체용 가스는 반도체의 특성을 만들기 위한 DOANT, ETCHANT, REACTANT, PURGE가스 등으로 구분되며 그 종류가 다양하고
대부분 독성이며, 높은 순도를 요구 합니다.
주요 반도체용 특수가스의 종류 및 특성
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종류
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몰중량
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냄새
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공기중 발화력(%)
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독성(ppm)
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부식성
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SiH4
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32.118
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불쾌한 냄새
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자연발화
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1.35 ~
|
O
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5
|
X
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SiF4
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104.08
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자극적 냄새
|
비연소성
|
-
|
O
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2.5(mgF)/m3
|
O
|
|
PH3
|
34
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고기썩는 냄새
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자연발화
|
1.32 ~
|
O
|
0.3
|
X
|
|
BF3
|
67.82
|
자극적 냄새
|
비연소성
|
-
|
O
|
0.3
|
O
|
|
NF3
|
71
|
무취
|
지연성
|
-
|
O
|
10
|
X
|
|
SF3
|
146.05
|
무취
|
비연소성
|
-
|
X
|
1000
|
X
|
|
WF6
|
279.84
|
자극적 냄새
|
비연소성
|
-
|
O
|
2.5(F)/m3
|
O
|
|
HCL
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36.46
|
자극적 냄새
|
비연소성
|
-
|
O
|
5
|
O
|
|
C2F6
|
138.012
|
무취
|
비연소성
|
-
|
X
|
|
X
|
|
CIF3
|
92.45
|
불쾌한 냄새
|
지연성
|
-
|
O
|
0.1
|
O
|
|
NH3
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17.03
|
자극적 냄새
|
지연성
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15.5 ~ 27
|
O
|
25
|
O
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용도
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